La industria de los semiconductores es estratégica para las grandes potencias. Sin excepción. Su desarrollo tecnológico está estrechamente vinculado a su capacidad de fabricar o adquirir chips de vanguardia, de ahí que EEUU y sus aliados estén desplegando paquetes sucesivos de sanciones que persiguen frenar el progreso técnico de China. En esta coyuntura el país de Xi Jinping solo tiene una opción: invertir en su industria de los chips para independizarse de las tecnologías extranjeras. Y lo está haciendo.
Dos de sus mayores inversiones llegaron en 2014 y 2019, antes de que se desatase la guerra tecnológica de la que estamos siendo testigos. En 2014 el Gobierno chino inyectó unos 19.000 millones de dólares en su industria de los chips, y en 2019 esta cifra se incrementó hasta rozar los 27.500 millones de dólares. No obstante, estas inversiones palidecen frente a la que hizo China a finales de 2023. Y es que hace apenas dos años el Gobierno aprobó una inversión de 41.000 millones de dólares dedicada expresamente a los fabricantes de equipos de litografía.
Los logros están empezando a llegar. Como os explicamos ayer, Pulin Technology, uno de los muchos fabricantes chinos de máquinas de fotolitografía, ha enviado a uno de sus clientes su primer equipo de vanguardia utilizando la tecnología de litografía de nanoimpresión (se conoce como NIL por su denominación en inglés NanoImprint Lithography). Sobre el papel esta máquina permitirá producir inicialmente chips de 5 nm, y en el futuro podrá llegar hasta los 2 nm. No obstante, esto no es todo. China tiene al menos otros dos proyectos extraordinariamente ambiciosos y prometedores.
La litografía NIL ya está lista. Y la fotolitografía UVE está en camino
La litografía NIL no es del todo equiparable a la fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE) implementada por la compañía neerlandesa ASML en sus máquinas más avanzadas. Su estrategia de funcionamiento abarata mucho el coste de estos equipos, pero también conlleva la ejecución de varios procesos secuenciales que la hacen más lenta que la litografía UVE y UVP. Por este motivo el equipo de Pulin no es el final del camino para China. Y con toda probabilidad durante los próximos meses verán la luz otras soluciones de fotolitografía desarrolladas por las empresas chinas.
A mediados del pasado mes de marzo varios medios asiáticos recogieron una fotografía tomada en el centro de investigación de Huawei en Dongguan, en la provincia de Cantón, en la que aparecía el prototipo de un equipo de litografía UVE diseñado y fabricado íntegramente en China. Presumiblemente esta máquina es similar a las que produce ASML, lo que nos invita a prever que durante 2026 el país liderado por Xi Jinping tendrá la capacidad de producir a gran escala chips avanzados empleando esta tecnología. No obstante, los planes de China no acaban aquí.
Una mayor resolución en la práctica implica que es posible producir semiconductores con más transistores, y, por tanto, más sofisticados y potentes
Y es que la Academia China de Ciencias está terminando el que sin duda es el proyecto más ambicioso de cuantos está desarrollando la industria china de los semiconductores. Según la doctora Kim, una experta en la fabricación de circuitos integrados que ha trabajado en Samsung y que actualmente investiga para TSMC en EEUU, China está a punto de alcanzar un «momento DeepSeek» en el ámbito de la industria de los circuitos integrados. Esto significa, sencillamente, que se está preparando para llegar a una disrupción que tiene el potencial de colocar a este país asiático a la misma altura de EEUU, Taiwán o Corea del Sur.
Sin embargo, la estrategia de China para producir chips de vanguardia es muy diferente a la que hasta ahora han utilizado sus rivales. Cada una de las máquinas UVE de ASML incorpora su propia fuente de luz ultravioleta, pero la Academia China de Ciencias persigue generar esta radiación tan importante para producir chips avanzados utilizando un sincrotrón, que no es otra cosa que un acelerador de partículas circular que se utiliza para analizar a nivel atómico las propiedades de la materia, como diversos tipos de materiales, o, incluso, de las proteínas. Se llama HEPS (High Energy Photon Source o Fuente de Fotones de Alta Energía), está en Pekín y podemos verlo en la fotografía de portada de este artículo.
Un apunte importante antes de seguir adelante: la luz ultravioleta (UV) es la responsable de trasladar el patrón geométrico que contiene el diseño de los chips hasta la oblea de silicio. Esto significa, a grandes rasgos, que la luz UVE tiene la capacidad de hacer posible la fabricación de circuitos integrados con una mayor resolución que la luz de ultravioleta profundo (UVP) que utilizan las máquinas de litografía de anterior generación que China tiene en sus manos. Y una mayor resolución en la práctica implica que es posible producir semiconductores con más transistores, y, por tanto, más sofisticados y potentes.
A priori podemos pensar que un acelerador de partículas no tiene nada que ver con la fabricación de circuitos integrados, pero estaríamos pasando por alto algo muy importante: el sincrotrón HEPS tiene la capacidad de producir luz UVE de alta potencia. De hecho, es una fuente diseñada para generar una gran cantidad de radiación.
El plan de China es colocar alrededor del acelerador de partículas varias plantas de fabricación de semiconductores a las que el sincrotrón entregará la luz UVE de la misma forma en que una central eléctrica entrega la electricidad a sus clientes. Así de sencillo. Todavía no se ha filtrado la fecha en la que China planea poner en marcha esta megafábrica de semiconductores de vanguardia, pero, como podemos ver en la fotografía, ya está muy avanzada, así que podemos dar por hecho que entrará en producción pronto.
Imagen | Dr. Kim
En Xataka | TSMC reconoce que se ha planteado llevarse sus fábricas fuera de Taiwán. Es imposible por un buen motivo
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La noticia
La primera máquina de litografía de vanguardia de China no es el mayor problema de EEUU. Lo serán las otras dos que están en camino
fue publicada originalmente en
Xataka
por
Juan Carlos López
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